標氣稀釋儀是一台專為實驗室設計的用於將高濃度的標準氣體稀釋成大氣濃度的用於實驗室GC校準用的低濃度氣體。過全自動準確控製標氣和稀釋氣的比率，得到準確的低濃度的標氣。可以同時用一路稀釋氣混合5個樣品罐內的標準氣體來製備不同濃度的校正氣體。方便快捷，多點校正一次完成。高達六個的質量流量控製器在平衡條件下產生重現性。
 

　　標氣稀釋儀使用的幾種方法：
 

　　一、基於質量流量控製器(MFC)
 

　　先有兩路氣源，一路是惰性氣體，另外一路是標準氣，這兩路氣源輸出的氣體經過減壓閥減壓進入質量流量控製器，各路質量流量控製器根據控製模塊設定的濃度值控製氣體的流量，氣體流量的不同決定混合後產生的混合氣體的濃度也不同，從而達到配製目標氣體濃度的目的。
 

　　二、基於電子壓力控製(EPC)
 

　　電子壓力控製技術，從控製角度講，就是采用閉環反饋控製技術，對壓力、壓差、流量信號進行綜合分析與控製，並組成一個易於操作使用的預製模塊。模塊由帶有溫度、壓力補償的比例閥、開關閥及壓力或流量傳感器構成。因此，電子壓力控製能夠十分輕鬆地實現惰性氣體的流量變化，從而實現稀釋作用。這種氣體稀釋方法廣泛應用於色譜分析試驗中，繪製出低濃度組分的標準曲線。
 

　　三、基於臨界流噴嘴
 

　　臨界流噴嘴，也稱為音速噴嘴，氣體流經噴嘴時，氣體流速將隨上下遊的壓力差(即噴嘴上遊入口壓力與噴嘴下遊出口壓力之差)的增大而增大。當噴嘴的下遊壓力和上遊壓力之比達到一定值時，進一步提高上遊壓力，氣體流速將變得與下遊壓力無關，即流過噴嘴的流速(流量)將保持恒定，此時的比值稱為臨界壓力比。臨界流噴嘴動態氣體稀釋裝置正是利用臨界壓力比下流經噴嘴流量恒定特性。由於該原理的氣體稀釋裝置具有高精度兼容腐蝕氣體等優點，現在得到越來越廣泛地使用。